0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺... 雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
-
桌面型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍... 熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜
-
旋轉(zhuǎn)粉體磁控濺射包覆機(jī) 粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料
-
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
-
分體式高真空三靶磁控濺射鍍... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
-
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜... 單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
-
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜...
-
雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...